武汉光电论坛第182期:光电子...
武汉光电论坛第181期:超快强...
武汉光电论坛第180期:最新透...
武汉光电论坛第179期:最新透...
武汉光电论坛第178期:GHz重...
武汉光电论坛第177期:薄膜太...
武汉光电论坛第176期:有机光...
武汉光电论坛第175期:硅基光...
  更多...
武汉光电国家实验室(筹)
华中科技大学
光电子科学与工程学院
国际光子与光电子学会议
湖北省光电测试技术服务中心
光电子微纳制造工艺平台
光电英才网
《光学与光电技术》
 
光电论坛第六期
弱光非线性光学的新进展与展望

主讲:朱一夫
时间:2008年7月11日下午3:30
摘要:将讨论弱光非线性光学及其应用的重要进展和展望。
详细内容:
主讲人简介:
朱一夫教授是微腔量子电动力学、微腔光学和弱光非线性光学领域的国际著名学者,在这些领域取得了系列的原创性成果,例如,在国际上最先完成双光子效应和级联辐射的实验,已成为量子光学教科书的标准内容(例如见M.O. Scully and M.S. Zubairy,Quantum Optics, Cambridge Univ Press 1997年);在国际上最先实验揭示电磁诱导透明三光子激发现象及吸收型光子开关机制;最先实验观察到弱光的巨克尔效应和交叉相位调制;最先实现超慢光六波混频的实验是目前国际上观察到的最高阶的电磁诱导透明过程;实验揭示目前国际上具有最弱开关能量(~10-5 光子/原子截面)的全光开关。这些原创性成果具有重要的科学价值并在量子光学、非线性光学和高精度测量术等学科有广泛而重要的应用。
以下为朱一夫教授简历:
1982年获得 兰州大学 学士学位
1987年获得 美国 Virginia 大学 博士学位
1988-1990年 美国Oregon大学 博士后
1991-1993年 Schlumberger-Doll Research Research Scientist
1994年-1997年 美国佛罗里达国际大学 Assistant 教授
1998年-2004年 美国佛罗里达国际大学 副教授
2005年-现在 美国佛罗里达国际大学 教授

上一条:光电论坛第十五期若干弱光非线性光学效应及其应用
下一条:光电论坛第一百一十三期 硅基光电子学及其应用

 

                  地址: 湖北省武汉市洪山区珞瑜路1037号武汉光电国家实验室(筹)
               联系方式:华中科技大学主校区127号     信箱邮编:430074       电话:87557463   87792227
             传真:87792225      电邮:wnloifm@mail.hust.edu.cn